“Redress 设计大赛” 时尚系列
Pavneet “Redress设计大奖” 系列 “EUTOPIA （乌托邦）” 灵感来自太阳庞克运动：幻想一个色彩明亮的生态乌托邦。她的系列升级再造废弃的锡克教头巾，将剪裁好的废料拼接和缝饰起来，创造出经典的廓形；既保持时尚，又能作为历久不衰的衣橱必备单品。头巾的材料由棉和丝绸制成，采用双层和三层设计，经久耐用。 Pavneet 希望她的系列能提供当地专业工匠就业机会，并保育她祖国印度的艺术和传统手工艺。
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焦点
20 3 月, 2026
Join a LIVE online session for emerging designers to deepen your knowledge for creating circular fashion, and give you an edge in your application for the Redress Design Award.
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17 3 月, 2026
設計師們 ：你們的考驗是以回收再重用的紡織品，沿用循環時尚的設計策略 ，為時尚前衛的成年人設計一套現代系列。
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17 3 月, 2026
Calling all emerging fashion designers: We challenge you to design a contemporary collection for a modern, fashion-forward adult, using waste textiles and guided by circular design strategies.
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